Titaanterasest plakeeritud plaadid ühendavad süsinikterase konstruktsioonitugevuse titaankatte suurepärase happe-leelise korrosioonikindlusega, muutes need nafta-, gaasi- ja keemiatööstuses kasutatavate surveanumate, reaktorite ja soojusvahetusseadmete võtmematerjalideks. Sellegipoolest on keevisliited endiselt kõrge riskiga nõrgad kohad, mis põhjustavad seadmete rikkeid praktilistes projektides ja on kriitilise tähtsusega keemiliste seadmete juhtimine praktiliste projektide juures. titaani ja terase ühilduvus.
Otsese sulakeevitamise ajal kõrgel temperatuuril läbivad titaan ja teras intensiivseid metallurgilisi reaktsioone ning moodustavad hapraid titaani-raua intermetallilisi ühendeid. Nendel kõvadel rabedatel faasidel puudub tugevus ja need on altid pragunemisele. Alluvad rõhu kõikumisele, vahelduvale temperatuurierinevusele ja keskmisele erosioonile nafta-gaasi töötingimustes, seadmetes, mis põhjustavad isegi eraldumist, lekkeid või muid lekkeid. praguneb. Sel põhjuseltitaani otsene sulatamine terasega on rangelt keelatud.
Usaldusväärne tööstuslik lahendus kasutab kihilist keevitust koos isolatsiooniüleminekuga. Süsinikterasest aluskiht keevitatakse kõigepealt konstruktsiooni tugevuse tagamiseks, millele järgneb titaankate. Erinevate metallelementide vastastikuse difusiooni blokeerimiseks kasutatakse spetsiaalseid siirdetäitemetalle ja isolatsioonikihte. Soone lihvimise täpsusele, puhastamise täpsusele, sisemise kuumuse läbilaskevõimele on kehtestatud ranged nõuded. kihtidevahelised saasteained või liigne soojussisend põhjustavad hapraid mikrostruktuure.
Sagedased kohapealse valmistamise ohud tulenevad enamasti protsessi kõrvalekalletest: titaankatte liigne lihvimine, siirdetäitemetallide ebaõige valik ja titaanikihi oksüdatsioon, mis on põhjustatud kaitsegaasi ebapiisavast puhtusest. Pisikesed defektid levivad kiiresti kõrge temperatuuri ja korrosiooni- ja õlisurve tingimustes. tõrge. Seetõttu on keevitusprotsessi range kontroll ja standardiseeritud kohapealne ehitamine hädavajalikud titaanterasest plakeeritud plaatidega keemiliste seadmete pikaajaliseks stabiilseks tööks.
